Методы оптико-электронной регистрации критических размеров субмикронных планарных структур изделий микроэлектроники

Характеристики изделий микроэлектроники, важнейшие из которых – быстродействие и энергопотребление, во многом зависят от минимальных размеров элементов топологии их планарных структур – так называемых «критических размеров», лежащих в субмикронном диапазоне. Соответственно задача фотолитографии как основного процесса микроэлектронного производства – обеспечить высококачественное формирование этих элементов. При этом отклонения величины критических размеров от требуемых значений выступают в роли показателя качества, с учетом которого корректируются параметры фотолитографического оборудования и материалов. Поэтому на различных стадиях технологического процесса важно постоянно получать информацию об изменении критических размеров. Количество операций контроля размеров на одной полупроводниковой пластине доходит до нескольких тысяч. Следовательно, для предприятий, выпускающих большие объемы микроэлектронных изделий, требуется оборудование, характеризующееся высокой производительностью и воспроизводимостью результатов контроля размеров субмикронных планарных структур. Наиболее эффективным для использования в технологических процессах с топологическими нормами до 0,25 мкм является оптико-электронное оборудование контроля, работающее на принципах оптической микроскопии. Зарубежное оборудование не всегда доступно производителям микроэлектроники Союзного государства и требует приобретения и освоения всей сопутствующей метрологической инфраструктуры. Поэтому приобретает особую актуальность производственное освоение отечественного оборудования контроля критических размеров планарных структур. Для организации производства подобного оборудования необходима разработка методологических подходов к его созданию и проектированию. В этом случае особое внимание должно быть уделено проблемам разработки методов оптико-электронной регистрации элементов критических размеров, определения конструктивно-технических параметров оптико-электронных систем фотометрирования и программной обработки измерительной информации. Трапашко Георгий Алексеевич